据日本《朝日新闻》10月19日报道，日本佳能公司历时10年开发出的新技术产品——可用于半导体制造的一种光刻设备——已经正式开售。日本制造企业曾经垄断光刻机市场，但后来被荷兰的阿斯麦(ASML)碾压。上述新设备能否动摇阿斯麦的霸主地位将备受关注。
▲2月25日，横滨举办的一场展览上悬挂的佳能公司标志。（法新社）
▲2月25日，横滨举办的一场展览上悬挂的佳能公司标志。（法新社）
佳能公司18日在横滨市举行了技术展示会，展示了新的“纳米压印”光刻设备。这是一种在半导体晶圆上绘制精密电路的设备。
这一新技术运用了佳能公司擅长的喷墨打印机和照相机技术，就像打印机滴墨一样，将极少的树脂滴到半导体晶圆上。类似盖印章的原理，将刻有凹凸电路图案的掩模压印到晶圆上制成电路。据悉在这一过程中，晶圆和掩模的位置相差不到几纳米。
现在占主流的光刻设备采用的是通过强光照射将电路蚀刻在晶圆上的方式。为了使强光变细，需要用到很多透镜和反射镜，还必须经过多次反复照射。这种方式不仅制造成本高，而且耗电量大，对环境的负荷也是一个课题。
“纳米压印”设备由于不使用强光，耗电量仅为光刻设备的十分之一，电路可一次就能压印制成，因此制造成本也很低。这种设备本身也比其他公司高达几百亿日元的设备更便宜。
半导体的电路线宽越细，性能越高。用于高性能智能手机和人工智能的尖端产品线宽已细至2纳米。“纳米压印”方式可以做到线宽5纳米的产品，甚至挑战最先进的2纳米产品。
光刻设备市场在20至30年前几乎被佳能和尼康两家公司垄断。但是，其后它们在技术开发上落后于阿斯麦，现在该公司拥有90%以上的市场占有率。
“纳米压印”是佳能公司为了对抗阿斯麦，从10年前开始就进行技术开发的设备。佳能公司董事长兼社长御手洗富士夫表示，要“成为游戏规则改变者”，意欲扭转局面。