中国光刻机研发再创新高，关键部件技术取得成果，未来可期！
在美国打压中国芯片行业发展的过程中，限制光刻机的出口在很长一段时间内掐住了中国的“命门”。中国有光刻机，但和美国的精细程度完全不是一个量级，那么，中国该如何打破美国封锁，研发出属于自己的高端光刻机呢？
在限制中国这件事上，美国是个十足的两面派。美国国务卿布林肯在2月5日访华，与我国外长进行会谈，但总统拜登却跑到荷兰，要求荷兰加大限制对华的光刻机出口，连上一代的光刻机都被列入黑名单。其实，中国不是不能造光刻机，而是我国的光刻机水平比起荷兰、美国等国家实在不够看，也难以支撑起我国芯片行业的发展。说个数字，大家就知道中国差得有多远了，被大多数发达国家垄断的光刻机是9纳米，被荷兰垄断的则是5纳米和7纳米，而中国在芯片行业的发展本就慢人一步，光刻机更是在2007年才被研发出来，还是“入门版”的90纳米。从90纳米到9纳米，再到7纳米、5纳米，中国的光刻机研发之路实在太过艰难。
美国要求荷兰加大对中国制裁力度，荷兰顶着压力没同意，这才有了中国龙芯研发出的28纳米芯片，而国产光刻机的研发进度却非常缓慢。那么，中国到底该怎么办呢？
