众所周知，目前全球能够研制出用于芯片制造的光刻机的厂商，只有四家，分别是荷兰的ASML、日本的尼康、佳能，以及中国的上海微电子。
其中荷兰最牛，只有它一家能够生产EUV光刻机，也就是用于7nm及以下的芯片制造，而尼康、佳能、上海微电子相对差一些。
事实上，如果这些光刻机能够公平公正的对外销售，那么大家也不必过于担忧，不就是钱的事情嘛，一台EUV光刻机，几亿，十几亿，掏钱买就是了。
但问题是，EUV光刻机，甚至是低一档的浸润式光刻机，都是受管制的，比如中国大陆就买不到，另外像俄罗斯等国也是买不到的，因为美国不准ASML卖。
所以像中国、俄罗斯等，必须自研光刻机，甚至要自研出EUV光刻机这种级别的，能够用于7nm以下芯片制造的光刻机，才能掌握主动权，不被美国卡脖子。
俄罗斯的X射线光刻机原理
所以我们看到，国内在努力的研发光刻机，争取早日攻克浸润式光刻机，甚至EUV光刻机，以期突破美国+ASML对我们的封锁。
而俄罗斯也是在不断的努力，想在自研出高端光刻机来，去年就传出消息称，俄罗斯要研发X-射线光刻机，用于对抗ASML的EUV光刻机。
而近日，再次传出消息，俄罗斯科学院发豪言称 2028 年自行研发的光刻机将问世，可生产出 7nm 芯片。
为此，俄罗斯还向此项目提供约100 亿卢布（约9亿元人民币）信贷支持，而受资助企业包括集成电路成套工艺领域的 Integral 和精密光刻设备领域的 Planar。
