说到芯片制造，那肯定离不开其中的核心设备光刻机，在光刻机这个领域也是我们的一大短板。由于美国的技术封锁从中作梗，使得我国的芯片产业被“卡脖子”。
在光刻机这块，只有ASML能够量产EUV光刻机，但是，自2019年中芯国际向该公司支付款项，截止到目前也没有出口交付。外在的打压并没有阻止我们自主研发的热度。
有消息称，国产EUV光刻机中的重要核心部件：高数值孔径（NA）投影镜头，在上海微电子装备有限公司和中科院通力合作下成功研发，这是一个振奋人心的好消息，预示着我们国产EUV光刻机又进一步。
国产光刻机核心技术突破对于国产芯片产业的发展起到了积极的推动作用，也体现了我国在自主研发的科技道路上有强大的韧性和创新能力。
其实好消息也不止于此，近期，中芯国际就披露了一则消息：停止28nm工艺芯片的产能，对于这个消息网上也是众说纷纭。要知道28nm芯片的应用是非常广泛的，物联网、WiFi、汽车等等应用的都是28nm芯片，倪光南院士也曾经表示过：芯片产业链的形成，以及芯片自给自足就要先解决28nm的国产化问题。那么，中芯国际为什么会有这样的举动呢？
对于芯片的制造，肯定要投入大量的资金，不光是光刻机，还有后期的维护等等都是大笔的投入。一个企业肯定要考虑成本的问题，另外就是自主创新，产业布局，中芯国际在芯片制造方面的进步也是有目共睹的，2019的14nm量产，2022年的12nm量产，现在中芯国际处在一个制造节点上，其实早在2020年，中芯的CEO梁孟松就表示过：7nm的芯片技术已经攻破，就差EUV光刻机。如今中芯国际的这个停产28nm芯片的举措，也侧面印证了国产光刻机核心技术已经突破。
