我们都知道， ASML的光刻机，需要美国提供的部分技术，才能保证华为的芯片，不能量产。
现在华为的高端芯片，依然是台积电的5 nm制程麒麟9000，久而久之，华为手中的麒麟9000芯片已经所剩无几，现在唯一能做的，就是采购高通公司的4 G芯片，以支撑其旗舰手机的研发。
可见光刻机对于芯片制造业的重要性，国内现有的光刻设备，最多只能加工90 nm,28 nm，才能取得突破性进展。
可以这么说，28 nm的光刻问题若能解决，由于只有极少数的晶片需要用到先进制程，我们就能自行制造绝大多数晶片。
我想你们应该还记得，在2020年的时候，白春礼院士曾经说过，他们会在“卡脖子”的问题上，对光刻机的研究进行突破，直到今天，我们还能在他们的网站上看到。
而现在，从最新公布的消息来看，中科院那边，好像是走在了最关键的一步上。
国产光刻机大功告成
据相关媒体报道，北京国望光学公司，为投射式光刻机，设计、制造、制造、制造等一系列配套设备，正在进行竞标。
据了解，此计划于2023年正式投产，届时将能为客户提供28 nm及以下制程的光刻机曝光系统。
光刻机的曝光系统，其实就是光刻机的透镜，不过透镜的设计要比透镜更加复杂，而透镜的设计难度，就是要将透镜上的数字孔径放大，只有数字孔径变大，才能满足光刻技术的要求，才能满足光刻技术的要求。
“很明显，国望光学的工厂马上就要开工了，到了2023年，我们就能量产了，到时候，我们的光刻机，就能达到28 nm以上。”
