大家都知道，因为老美修改了有关规定，导致台积电和三星，都不能再向华为出口了。这一举动引起了国际半导体产业链的异动，在国外芯片企业不能自由出货的情况下，更多的国家开始在国内进行芯片生产，以避免受到国外供应链的影响。
而国内的中芯国际，则是看中了这一点，从2019年起，他们就开始大量收购荷兰 ASML公司的芯片生产设备，扩大了生产规模。而就在不久前，荷兰一方“毁约”，与日美签订了一份新的协议，将向中企出口芯片设备的范围进一步压缩。
其中，部分先进深 UV光刻装置的出口被封杀，仅 NTX 1980 i (38 nm单次曝光精度）及以前的装置才能向中企供货。这一举动，无疑将对华国扩大芯片代工厂的产能，造成一定的冲击，尤其是国产的光刻设备，更是迫在眉睫。
然而就在刚刚，荷兰 ASML公司的总裁温宁克，在谈到了光刻机的事情后，却是忽然“变脸”了。对于中国的光刻机，他发表了自己的看法：“如果中国能研发出自己的光刻机，并建立起自己的芯片生产系统，那么世界上的芯片生产系统，就会被打破。”也就是说，他们想让我们放弃自己的光刻技术，而直接从 ASML那里，购买他们的光刻设备。
到目前为止，华国已有的几台光刻设备，都只能在90纳米制程的晶片上使用。在高端芯片的生产上，他们还是很依赖国外的设备。然而，随着白春礼院士就光刻机和芯片的问题发表了自己的看法，国内在芯片生产方面的研究，却是加快了进度。
早在几年前，哈工大就已经研制出了一台可以在350 nm-28nm波段使用的超高速激光干涉系统。有外国媒体认为，这是无法阻止的。
