近日，中国科学院前院长白春礼院士在长春光机所考察时，参观了EUV光源样机，这说明中国已经掌握了极紫外光源技术，国产EUV光刻机距离突破仅剩一步之遥。这一消息引起了全球光刻机市场的震荡，荷兰ASML公司总裁公开指责中国自研EUV光刻机将打乱全球芯片市场。
EUV光刻机是一种能够制造高端芯片的设备，它采用极紫外光源进行曝光，可将芯片的制造精度提高到5nm以下，适用于制造高精度、高性能的芯片，如5G芯片和人工智能芯片等。目前全世界能生产EUV光刻机的公司只有荷兰的ASML，但是由于美国芯片法案，限制了ASML向中国自由出货EUV光刻机，需要经过荷兰和欧盟的许可才能出口中国。这也让中国的高端芯片制造能力受到了很大制约。
EUV光刻机使用的EUV光源制造难度极大，是EUV光刻机制造过程中的一个主要挑战。EUV光源需要在非常短的时间内产生大量的极紫外光线，这要求光源中使用的材料能够承受极高的温度和压力。由于极紫外光线具有很强的穿透力，因此光源中使用的材料不能产生任何杂质或污染物，否则会影响光源的输出功率和稳定性。目前，全球只有少数几家公司能够生产EUV光源，欧美国家对于EUV光源技术对我国是绝对封锁的。要成功研制EUV光刻机就必须先突破EUV光源技术。
压力越大，动力越大！目前中国正举全国之力，全力推进自主EUV光刻机研制工作。长春光机所制造的EUV光源工程样机也只是其中的一个关键子系统，该工程样机的成功研发，说明中国目前已经掌握了EUV光刻机中最关键的极紫外光源技术，可以不再依赖欧美国家提供的光源，中国向EUV光刻机成功制造又迈出了坚实的一步。中国能在短时间内突破EUV光刻机中最困难的EUV光源技术，让原本认为中国需要十多年时间才能搞定EUV光刻机的欧美国家，感受到了极大压力。
