电报解读|国产28nm光刻机获重大突破半导体国产化再上台阶

2023-08-03 智通财经420

导读

国产28nm光刻机重大突破！据新华网援引《证券日报》消息称，上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破，预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W光刻机设备。

国产28nm光刻机重大突破！
据新华网援引《证券日报》消息称，上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破，预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W光刻机设备。

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