就在刚才，光刻机迎来大消息！
今天午后，根据DigiTimes报道，ASML试图规避荷兰新销售许可禁令，面向中国市场推出特别版DUV光刻机。消息称，如果该项目继续推进，中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产28纳米及更成熟工艺的芯片。
不过，从全球的芯片市场来看，却是危机乍现。市值近480万亿韩元的三星电子似乎要迎来业绩“巨雷”。据悉，该公司最近一个季度利润预计将同比暴跌96%，创14年多以来季度最低水平。芯片供应过剩导致巨额亏损。
与此同时，今年以来，亚洲最牛的股市——日本股市今天亦出现空头信号。日经225指数的30分钟K线今天首次跌破了4月初以来上涨的趋势线。日经225收跌1.7%。那么，这究竟意味着什么？日本牛市是否已经终结？
光刻机大消息
7月6日下午，市场突然传来关于芯片光刻机的大消息。根据DigiTimes报道，ASML试图规避荷兰新销售许可禁令，面向中国市场推出特别版DUV光刻机。消息称如果该项目继续推进，中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产28纳米及更成熟工艺的芯片。
消息称该特别版DUV光刻机基于TwinscanNXT:1980Di光刻系统改造，而1980Di是10年前推出的旧型号，不在本次官方禁令范围内。
1980Di是ASML现有效率比较低的光刻机，支持NA1.35光学器件、分辨率可以达到<38nm，理论上可以支持7nm工艺。大多数晶圆厂使用1980Di光刻机，主要生产14nm及以上工艺芯片，很少使用其生产7nm芯片。
最近，荷兰方面正式宣布了最新的决定，要求企业出口先进设备前需要获得许可证，新规将在9月1日生效，明眼人都知道这一规定针对的是谁，不过荷兰此举影响的将不仅是中国芯片，对它自家的芯片设备产业也将造成打击。
在荷兰新规出台之后，ASML表示，根据新出口管制条例规定，该公司需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统（即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统）。荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证，并将向ASML提供许可证所附条件的细节。
ASML在声明中重点指出，荷兰政府新颁布的出口管制条例只涉及TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统（DUV，深紫外光刻）。而该公司的EUV光刻（极紫外光刻）系统在此前已经受到限制，其他系统的发运暂未受荷兰政府管控。
不过，中国的反制很快就来了。近日，中国方面宣布，将对镓、锗相关物项实施出口管制。而这两种金属被称为“芯片粮食”。为此，美国、荷兰都提出了反对意见。
