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概念动态|美埃科技新增“光刻机”概念

   2023-09-08 同花顺iNews​290
导读

据同花顺数据显示,入选理由是:公司上市保荐书:公司为上海微电子装备(集团)股份有限公司开发国内首台 28 纳米光刻设备工艺制程所需的机台内国际最高洁净等级标准(ISO Class 1 级)洁净环境提供 EFU (超薄型设

 

据同花顺数据显示,入选理由是:公司上市保荐书:公司为上海微电子装备(集团)股份有限公司开发国内首台 28 纳米光刻设备工艺制程所需的机台内国际最高洁净等级标准(ISO Class 1 级)洁净环境提供 EFU (超薄型设备端自带风机过滤机组)及 ULPA(超高效过滤器)等产品,亦已验收合格,助力国内光刻机事业突破卡脖子技术难题。此外,在海外市场,公司系Intel、 ST Microelectronics 等国际半导体厂商的合格供应商,为其提供空气净化产品。公司在前述产品核心技术指标、客户信赖度等方面,可与国际品牌平行竞争,处于国内品牌领先的地位。    

 
(文/小编)
 
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