IT之家 9 月 18 日闪讯速报，近期，一则消息在各大视频平台广为传播，称清华大学 EUV 项目把 ASML 的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地。
对此，中国电子工程设计院有限公司（下称“中国电子院”）今日下午发声，称该项目并非网传的国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。
据介绍，北京高能同步辐射光源项目坐落于北京怀柔雁栖湖畔，是国家“十三五”重大科技基础设施，它是我国第一台高能量同步辐射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一。该项目早在 2019 年就开始建设、将于 2025 年底投入使用。
HEPS 的作用是通过加速器将电子束加速到 6GeV，然后注入周长 1360 米的储存环，用接近光速的速度保持运转，电子束在储存环的不同位置通过弯转磁铁或者各种插入件时，就会沿着偏转轨道切线的方向释放出稳定、高能量、高亮度的光，也就是同步辐射光。
中国电子院表示，简单的说，HEPS 可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型 X 光机。它产生的小光束可以穿透物质、深入内部进行立体扫描，从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界，HEPS 是进行科学实验的大科学装置，并不是网传的光刻机工厂。
IT之家注：中国电子工程设计院有限公司创建于 1953 年，曾先后隶属于电子工业部、信息产业部，2003 年由国务院国资委管理，2009 年并入国家开发投资集团有限公司。该院以设计为龙头，服务范围涵盖前期咨询、规划、环境和节能评价、工程设计、项目管理、工程监理、工程承包、工程检测评定等全过程。
