曾经因“光刻机概念股”引发热捧的苏大维格(300331)，10月9日开盘后一度大跌超13%。
就在上个月中旬，苏大维格在互动平台表态“公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售”，引发股价大涨。更多内容请看《此光刻非彼光刻？一则回复后苏大维格20%涨停！》
10月8日晚间，苏大维格披露收到中国证监会立案告知书，因公司涉嫌信息披露违法违规，中国证监会决定对公司立案调查。同日晚间，苏大维格在回复深交所关注函中表示，公司所生产的光刻设备目前不涉及集成电路领域相关产品的生产。
苏大维格同时表示，公司证券部门在回复相关互动易问题时，直接使用了“光刻机”、“龙头芯片公司”等可能引起误解的表述，引起了部分投资者误会和误解，并导致公司股价发生较大波动，对此，公司向投资者表示歉意。
公司光刻设备不涉及集成电路产品的生产
在光刻机概念持续受到热捧之际，苏大维格9月14日在互动平台表态称“公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口；同时，公司向国内相关芯片光刻机厂商提供了定位光栅尺部件。”公司股价在当天午后快速拉升，并最终实现20%涨停，当天成交额达到15.55亿元，换手率高达25.89%。
不过，此光刻机非彼光刻机。
从曝光方式上，光刻机可以分为掩模光刻机（在运行过程中均需要使用掩模板），包括接触式/接近式光刻机，投影式光刻机（如DUV和EUV）等；以及无掩模光刻机，即直写光刻机，包括电子束光刻机、激光直写光刻机、激光直接成像设备（LDI）等。半导体及平板显示制造普遍采用“直写光刻制作掩模+投影光刻批量复制”的工艺过程。
苏大维格在回复深交所关注函时直言，“一般所称的光刻机是有掩模光刻机中的投影式光刻机，与公司所生产的激光直写光刻机不属于同一技术路线。”据介绍，公司自2001年左右开始研发各类光刻设备，包括激光直写光刻机、纳米压印设备等，“前述设备主要用于微纳光学产品和衍射光学器件的制造，公司所生产的光刻设备目前不涉及集成电路领域相关产品的生产。”
再来看销售情况，苏大维格披露的回复函显示，公司开发生产的激光直写光刻设备目前主要是自用，对外销售的金额较小，2022年实现对外销售收入约770.93万元，2023年上半年实现对外销售收入约2177.27万元，客户主要包括两类：第一类是高校和科研院所，其采购公司光刻设备主要是用作相关领域的研究。第二类客户是除高校和科研院所外的其他客户，主要包含各类企业客户，其采购公司光刻设备主要用于其部分产品的研发及小批量试制、微纳光学材料及光通讯器件的制作等领域。
苏大维格同时承认，公司激光直写光刻设备在最小线宽、线宽均匀度、网格精度、稳定性等关键技术参数与同行业龙头公司相比存在较大差距。
